Ürünler

Ev > Ürünler > Al2O3 Seramik > Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment

Kategoriler

Metalize Keramik

(10)

İletişim

İletişim: Miss. Zhu

Tel: 17351500728

Şimdi iletişime geçin

Bize e-posta gönderin.

Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment

Name: Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment
Brand: Wuxi Special Ceramic Electrical Co.,Ltd
SKU: WS-AL-PS14
Price: 95.00 USD
Availability: InStock

Ürün Ayrıntıları

Menşe yeri: Jiangsu, Çin

Marka adı: Wuxi Special Ceramic

Sertifika: ISO 9001:2015

Model numarası: WS-AL-PS14

Ödeme ve Nakliye Şartları

Min sipariş miktarı: 10 adet

Fiyat: US$10~US$180/Piece

Ambalaj bilgileri: Deniz veya hava taşımacılığı için paletlenmiş, köpük ara parçalı ihracat sınıfı kartonlar

Teslim süresi: Onaylandıktan sonra 15-30 gün

Ödeme koşulları: Ekipman işleme kapasitesine göre pazarlık yapın

Yetenek temini: Ayda 100.000 adet

En İyi Fiyatı Alın

Ürün Ayrıntıları

Ürün Tanımı

Vurgulamak: 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                Polished Alumina Wafer Chuck, Mirror Finish Ceramic Part, Semiconductor Processing Equipment
                              

Alümina içeriği:	%99,5 Al2O3	Yüzey İşlemi:	Ayna cilalı
Yüzey pürüzlülüğü:	Ra 0,02 um	Saflık Derecesi:	Vakum Sınıfı
Yoğunluk:	3,92 gr/cm3	Renk:	Fildişi
Başvuru:	Yarım iletken işleme ekipmanları	maksimum kullanım sıcaklığı:	1700 derece C

Alümina içeriği:	%99,5 Al2O3
Yüzey İşlemi:	Ayna cilalı
Yüzey pürüzlülüğü:	Ra 0,02 um
Saflık Derecesi:	Vakum Sınıfı
Yoğunluk:	3,92 gr/cm3
Renk:	Fildişi
Başvuru:	Yarım iletken işleme ekipmanları
maksimum kullanım sıcaklığı:	1700 derece C

Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment

In semiconductor processing, the surface that touches the wafer must be perfect: smooth enough to avoid particle trapping, clean enough to avoid contamination, and stable enough to hold wafers flat at process temperature. Our Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chucks are pressed and sintered from vacuum grade 99.5% alumina, then ground and polished to a mirror finish with roughness down to 0.02 microns Ra. The dense, non-porous surface releases wafers cleanly, resists the

Tags:

Al2O3 Seramik

Steatit Seramik

Silisyum Nitrür seramikler

Zirkonya Seramikleri

seramik buharlaştırma botu

Silisyum Karbür Seramikler

Kordiyerit Seramikler

Mullite Seramik

Seramik Yüzey

Bor Nitrür Seramikler

Seramik Şaft

Seramik nozul

Zirkonyum Oksit Seramik

Macor Seramik

yarı iletken seramikler

Zirkonya Seramik Bıçak

Y2O3 tozu

Alüminyum Nitrür Seramik

Metalize Keramik

Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment

Polished Alumina Wafer Chuck

Mirror Finish Ceramic Part

Semiconductor Processing Equipment

Alümina Seramik Tabak,

Al2o3 Seramik Tabak,

Al2O3 Seramik

Steatit Seramik

Silisyum Nitrür seramikler

Zirkonya Seramikleri

seramik buharlaştırma botu

Silisyum Karbür Seramikler

Kordiyerit Seramikler